ثبت دومین ir رشت

ثبت دومین ir رشت با تنوع بسیار

شرکت TSMC اخیرا در یک رویداد - ثبت دومین ir رشت - ویژه، فناوری ساخت ۵ نانومتری نسل آینده تراشه‌هایش را معرفی کرد. این فرآیند که در - ثبت دومین ir رشت - سال ۲۰۲۰ محصولات تجاری مبتنی بر آن به بازار عرضه می‌شوند، CLN5 نام دارد و از لیتوگرافی ماوراء‌بنفش (EUV) بهره می‌برد. این فناوری به TSMC اجازه می‌دهد - ثبت دومین ir رشت - چگالی ترانزیستور‌های یک تراشه را به میزان شگفت‌آوری افزایش دهد. البته نمی‌توان انتظار یک عملکرد خارق‌العاده و توان مصرفی فوق‌العاده کم داشت و میزان بهبود‌های مورد انتظار نمی‌تواند چندان چشم‌گیر باشد.

اطلاعات بیشتر در مورد ثبت دومین ir رشت اینجا است

TSMC مانند سایر تولید‌کنندگان تراشه‌، به‌تدریج در حال استفاده از سیستم‌های Step & scan مدل Twinscan NXE:3400 EUV شرکت ASML - ثبت دومین ir رشت - برای لیتوگرافی فرابنفش است. سال آینده این شرکت از این سیستم‌ها برای ساخت نسل دوم تراشه‌های ۷ نانومتری خود موسوم به (+CLN7FF) بهره خواهد - ثبت دومین ir رشت - برد. استفاده از این سیستم‌ها در تولید تراشه‌های ۷ نانومتری جدید و در لایه‌های نه‌چندان مهم که سال آینده آغاز می‌شود، بهبود‌های زیادی نسبت به تراشه‌های ۷ نانومتری کنونی (CLN7FF) ایجاد می‌کند که به گفته TSMC چندان چشم‌گیر نیست. بر اساس اعلام - ثبت دومین ir رشت - این - ثبت دومین ir رشت - شرکت، تراشه‌های ++CLN7FF نسبت به نمونه‌های - ثبت دومین ir رشت - کنونی ۲۰ درصد چگالی ترانزیستور بیشتر و ۱۰ درصد توان مصرفی کمتر در شرایط مشابه از نظر فرکانس کاری و پیچیدگی تراشه خواهند داشت؛ اما فرآیند ساخت ۵ نانومتری CLN5 استفاده بیشتری از لیتوگرافی فرابنفش EUV خواهد داشت و بهبود‌های بیشتری از آن انتظار داریم. بر اساس اعلام این شرکت نسل ۵ نانومتری نسبت به نسل ۷ نانومتری بهبودیافته ++CLN7FF تراشه‌های تولیدی این شرکت، افزایش چگالی ترانزیستورها به میزان ۱.۸ برابری - ثبت دومین ir رشت - تجربه می‌کند که معادل کاهش ۴۵ درصدی مساحت مدار‌های مجتمع است. همچنین در این رویداد اعلام شد تراشه‌های ۵ نانومتری در یک شرایط یکسان از نظر فرکانس و پیچیدگی تراشه به میزان - ثبت دومین ir رشت - ۲۰ درصد توان مصرفی کمتری خواهد داشت که معادل افزایش فرکانس کاری به میزان ۱۵ درصد خواهد بود. در نسل آینده تراشه‌ها، TSMC امکان ساخت تراشه‌هایی با ترانزیستور‌های با ولتاژ آستانه فوق کم (ELTV) را فراهم - ثبت دومین ir رشت - خواهد کرد تا به مشتریان اجازه دهد فرکانس تراشه‌هایشان را تا ۲۵ درصد افزایش دهند. البته هنوز جزئیات زیادی از این تکنولوژی منتشر نشده است.

هم اکنون برای ثبت دومین ir رشت اقدام کنید

اطلاعات ثبت دومین ir رشت را از ما بخواهید

ثبت دومین ir رشت برای اطلاعات بیشتر کلیک کنید

میزان کم بهبود‌های مورد انتظار در تغییر نسل تراشه‌های این شرکت از CLN7FF به ++CLN7FF و در سال ۲۰۲۰ به CLN5، - ثبت دومین ir رشت - نشان‌دهنده این حقیقت است که روز‌به‌روز بهبود بیشتر فناوری ساخت مدار‌های مجتمع الکترونیک، سخت‌تر می‌شود. باید دید در آینده مشتریان TSMC برخی تغییر نسل‌ها را به دلیل بهبود نه‌چندان زیاد در کارایی نادیده می‌گیرند یا همچنان پا‌به‌پای نسل‌های بعدی تراشه‌های الکترونیکی حرکت می‌کنند. البته طی - ثبت دومین ir رشت - سال‌های گذشته دیده شده است که شرکت‌های بزرگ مانند اپل سعی داشته‌اند از قطار تکنولوژی تراشه‌های الکترونیکی عقب نیافتند. 

در مورد ثبت دومین ir رشت بیشتر بدانیم

در حال حاضر هنوز فرآیند‌های ساخت تراشه‌های TSMC که از لیتوگرافی فرابنفش EUV استفاده می‎کنند به‌طور کامل آماده نیستند. با وجود اینکه بلاک‌های زیادی در فرآیند ++CLN7 تاکنون طراحی و ساخته‌ شده‌اند، اما هنوز هم بلاک‌های مهمی مانند 28-112G SERDES و FPGA-های داخل چیپ و همچنین واسط‌های سخت‌افزاری HBM2 و DDR5 تا انتهای سال ۲۰۱۸ آماده نخواهند‌ شد. همچنین استاندارد‌های طراحی برای - ثبت دومین ir رشت - نسل CLN5 در نسخه‌ی غیر رسمی 0.5 قرار دارند و تا دو ماه آینده منتشر نخواهند شد. همچنین بلاک‌های سخت‌افزاری زیادی مانند (PCIe 4.0, DDR4, USB 3.1 و ...) هنوز - ثبت دومین ir رشت - برای CLN5 طراحی نشده‌اند و تا قبل از سال ۲۰۱۹ آماده نخواهند شد.

ثبت دومین ir رشت مخصوص شما

موضوع دیگر آمادگی کامل تجهیزات و امکانات لازم برای تولید است. بر اساس یک گزارش، شرکت TSMC در - ثبت دومین ir رشت - حال ساخت کارخانه جدیدی برای ساخت تراشه‌های ۵ نانومتری CLN5 است. در این محل جدید تعداد بسیار زیادی دستگاه لیتوگرافی NXE:3400 نصب خواهد شد. البته بر اساس گزارش TSMC در - ثبت دومین ir رشت - حال حاضر میزان توان نوری روزانه حداکثر این دستگاه‌ها فقط ۱۴۵ وات است که برای تولید انبوه در مقیاس بزرگ مناسب نیست. البته برخی مدل‌ها قابلیت پشتیبانی تا ۲۵۰ وات را هم دارند و تا پایان سال جاری میلادی شرکت TSMC قصد دارد به رکورد ۳۰۰ وات برسد. با‌این‌حال تجهیزات لیتوگرافی EUV نیازمند بهبود‌های بیشتری هستند و باید تا سال آینده برخی از مشکلات مانند میزان عبور نور فرابنفش که در حال حاضر ۸۳ درصد است و باید به ۹۰ درصد برسد نیز تا - ثبت دومین ir رشت - سال آینده حل شود. در نهایت TSMC در این رویداد اعلام کرد لیتوگرافی EUV هنوز برای استفاده کاملا آماده نیست اما برای سال ۲۰۱۹ و ۲۰۲۰ به‌طور کامل - ثبت دومین ir رشت - وارد فرآیند تولید تراشه‌های این شرکت خواهد شد.